L’entreprise coréenne a également indiqué que le rendement pour le 5 nm était désormais conforme à celui attendu ; Business Korea rapportait des problèmes avec ce nœud de gravure il y a de cela quelques mois. Enfin, concernant le 4 nm, Samsung a reconnu un retard sur le calendrier initial mais assure que les rendements sont maintenant stables.
Le nœud 3GAE de Samsung Foundry utilise des transistors à effet de champ à grille enveloppante appelés GAAFET, acronyme de Gate All Around FET. Le nom officiel employé par Samsung est MBCFET (Multi-Bridge Channel Field-Effect Transistor).
Selon l’entreprise, ce nœud offre une augmentation de 30 % des performances, une réduction de 50 % de la consommation d’énergie et une densité de transistors jusqu’à 80 % supérieure par rapport au nœud 7 nm FinFET.
Dans un premier temps, Samsung Foundry devrait réserver son 3GAE à la division Samsung LSI ainsi qu’à quelques clients sélectionnés. Du côté des concepteurs de puces, le passage à une nouvelle structure de transistors nécessite de retravailler le design et d’utiliser de nouvelles IP.
Pour mentionner l’aspect financier, sachez que Samsung a déclaré avoir enregistré 77,78 trillions de wons de recettes et 14,12 trillions de wons de bénéfice d’exploitation au cours du premier trimestre, soit une augmentation de 19 % et de 50 %, respectivement, par rapport à l’année précédente.